[发明专利]光刻机硅片承载台及其使用方法有效

专利信息
申请号: 200810043959.8 申请日: 2008-11-20
公开(公告)号: CN101738869A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 宁开明 申请(专利权)人: 上海华虹NEC电子有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 丁纪铁
地址: 201206 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种光刻机硅片承载台,包括承载台基座、真空孔、应力感应器、连接器、硅片接送器;所述承载台基座上设有多个真空孔及硅片接送器;承载台基座底部设有连接器;所述承载台基座的表面设置多个应力感应器。所述应力感应器连接力电转换电路,力电转换电路的输出端与终端控制器连接,终端控制器连接动力马达。所述应力感应器通过感应硅片对其作用力的作用点、大小、方向等信息,实现伸缩,调节高度。本发明光刻机硅片承载台,通过调节与硅片接触的各应力感应器的高度,能够保证硅片的正面始终处于同一水平面上,避免因硅片背面存在颗粒等沾污引起的正面图形离焦现象,减少光刻返工的现象。本发明还公开了该光刻机硅片承载台的使用方法。
搜索关键词: 光刻 硅片 承载 及其 使用方法
【主权项】:
一种光刻机硅片承载台,包括承载台基座、真空孔、连接器、硅片接送器;所述承载台基座上设有多个真空孔及硅片接送器;承载台基座底部设有连接器;其特征在于:所述承载台基座的表面设置多个应力感应器。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹NEC电子有限公司,未经上海华虹NEC电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810043959.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top