[发明专利]光刻机硅片承载台及其使用方法有效
申请号: | 200810043959.8 | 申请日: | 2008-11-20 |
公开(公告)号: | CN101738869A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 宁开明 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 丁纪铁 |
地址: | 201206 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种光刻机硅片承载台,包括承载台基座、真空孔、应力感应器、连接器、硅片接送器;所述承载台基座上设有多个真空孔及硅片接送器;承载台基座底部设有连接器;所述承载台基座的表面设置多个应力感应器。所述应力感应器连接力电转换电路,力电转换电路的输出端与终端控制器连接,终端控制器连接动力马达。所述应力感应器通过感应硅片对其作用力的作用点、大小、方向等信息,实现伸缩,调节高度。本发明光刻机硅片承载台,通过调节与硅片接触的各应力感应器的高度,能够保证硅片的正面始终处于同一水平面上,避免因硅片背面存在颗粒等沾污引起的正面图形离焦现象,减少光刻返工的现象。本发明还公开了该光刻机硅片承载台的使用方法。 | ||
搜索关键词: | 光刻 硅片 承载 及其 使用方法 | ||
【主权项】:
一种光刻机硅片承载台,包括承载台基座、真空孔、连接器、硅片接送器;所述承载台基座上设有多个真空孔及硅片接送器;承载台基座底部设有连接器;其特征在于:所述承载台基座的表面设置多个应力感应器。
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