[发明专利]曝光影像偏差的校正方法和成像装置有效
| 申请号： | 200810067797.1 | 申请日： | 2008-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN101609284A | 公开（公告）日： | 2009-12-23 |
| 发明（设计）人： | 孙海翔;高云峰 | 申请（专利权）人： | 深圳市大族激光科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03G15/04 | 分类号： | G03G15/04;G03G15/00;B41J2/435 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518057广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种曝光影像偏差的校正方法和成像装置。所述校正方法包括：根据曝光模块在成像面上的实际曝光位置，生成能够校正所述曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息；按照所述曝光控制信息，控制所述曝光模块在所述成像面上进行曝光。本发明实施例只需要通过软件补偿的方式即可以对曝光模块的曝光位置偏差进行自动校正，而不需要对曝光模块的机械或硬件电路做任何改动。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 影像 偏差 校正 方法 成像 装置 | ||
【主权项】：
1、一种曝光影像偏差的校正方法，其特征在于，包括：根据曝光模块在成像面上的实际曝光位置，生成能够校正所述曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息；按照所述曝光控制信息，控制所述曝光模块在所述成像面上进行曝光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市大族激光科技股份有限公司，未经深圳市大族激光科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810067797.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于降低血糖和血脂的药物组合物
- 下一篇：一种治疗烧烫伤的药品
