[发明专利]多羟基硅氧烷光电导体有效

专利信息
申请号: 200810074225.6 申请日: 2008-02-13
公开(公告)号: CN101246319A 公开(公告)日: 2008-08-20
发明(设计)人: K·-T·丁;J·F·亚努斯;R·K·克兰达尔;E·J·小雷迪根 申请(专利权)人: 施乐公司
主分类号: G03G5/06 分类号: G03G5/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 段晓玲;韦欣华
地址: 美国康*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了多羟基硅氧烷光电导体。成像元件括任选的支撑基材、光产生层、和至少一层包含至少一种电荷输送组分的电荷传输层、和与该电荷输送层接触并相邻的外涂层,并且该外涂层包含丙烯酸化多元醇、聚亚烷基二醇、交联剂、羟基官能化的硅氧烷和电荷输送组分。
搜索关键词: 羟基 硅氧烷 光电 导体
【主权项】:
1.一种成像元件,包括任选的支撑基材、光产生层、和至少一层包含至少一种电荷输送组分的电荷传输层、和与所述电荷输送层接触并相邻的外涂层,并且该外涂层包含丙烯酸化多元醇、聚亚烷基二醇、交联剂、羟基官能化的硅氧烷和电荷输送组分。
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