[发明专利]晶片级封装物及制作晶片级封装物的掩模无效

专利信息
申请号: 200810080436.0 申请日: 2008-02-19
公开(公告)号: CN101414613A 公开(公告)日: 2009-04-22
发明(设计)人: 翁福田;廖永顺;罗益全;张笔政 申请(专利权)人: 采钰科技股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L23/02;G03F1/14
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 陈 晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种晶片级封装物及制作晶片级封装物的掩模,该晶片级封装物包括:一半导体晶片,具有多个半导体芯片形成于其上,所述半导体芯片仅具有完整多边形的外形;一无电路区,形成于该半导体晶片上,以隔离所述半导体芯片;一支撑结构,大体形成于该无电路区之上,其中形成并环绕该半导体晶片的一边缘的该支撑结构的一部分内具有多个导通孔;以及一透光衬底,形成于该半导体晶片之上,定义出介于所述半导体芯片与该透光衬底之间的多个空室,其中该透光衬底由该支撑结构所支撑。
搜索关键词: 晶片 封装 制作
【主权项】:
1. 一种晶片级封装物,包括:一半导体晶片,具有多个半导体芯片形成于其上,所述半导体芯片仅具有完整多边形的外形;一无电路区,形成于该半导体晶片上,以隔离所述半导体芯片;一支撑结构,大体形成于该无电路区之上,其中形成并环绕该半导体晶片的一边缘的该支撑结构的一部分内具有多个导通孔;以及一透光衬底,形成于该半导体晶片之上,定义出介于所述半导体芯片与该透光衬底之间的多个空室,其中该透光衬底由该支撑结构所支撑。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于采钰科技股份有限公司,未经采钰科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810080436.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top