[发明专利]修正光学邻近效应的方法

摘要

一种修正光学邻近效应的方法可包含下列步骤：制造具有这些测试图案的测试光罩；使用该测试光罩，使这些图案投射在晶圆上；测量形成在晶圆上的这些图案的线宽；以及使用该所测量的线宽来执行模型校正并编写修正秘诀。可将晶圆的晶片的整个面积分割成多数个模板。可在多数个模板中的一个模板上执行光学邻近修正并可验证在另一模板上适当地执行光学邻近修正。可合并在通过验证的多数个模板上的数据并可使用该合并数据来编写最终数据。使用该最终数据可制造光罩。

主权项

1.一种修正光学邻近效应的方法，包括：制造具有这些测试图案的测试光罩；使用该测试光罩，在晶圆上形成这些晶圆图案；测量形成在晶圆上的这些晶圆图案的线宽；使用该所测量的线宽来执行模型校正；使用该模型校正来编写修正秘诀；将该晶圆整个面积分割成多数个模板；在该多数个模板中的一个模板上执行光学邻近修正并验证于执行光学邻近修正期间，是否适当地执行在相异模板上所完成的光学邻近修正；合并在通过该验证的多数个模板上的数据并编写最终数据；以及使用该最终数据来制造光罩。