[发明专利]半导体封装结构及其形成方法有效

专利信息
申请号: 200810085230.7 申请日: 2008-03-10
公开(公告)号: CN101431086A 公开(公告)日: 2009-05-13
发明(设计)人: 陈朝祯;杨琳琪;周家琦;邓世杰 申请(专利权)人: 采钰科技股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L23/10;H01L21/52
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 陈 晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种半导体封装结构及其制造方法,该半导体封装结构包括:基板,该基板包括至少一个含有光感应元件的曝露区;覆盖层,用于区隔该曝露区与外部环境,该基板与该覆盖层其中之一为基底,另一个为顶部结构,以及坝状结构,形成于该基底上以形成空穴区,其中该坝状结构的顶部具有凹槽,该坝状结构利用粘着剂与该顶部结构接合,且该空穴区为该曝露区。本发明能够有效地减少粘着剂的损失及溢漏,从而降低封装缺陷以获得良好的半导体封装结构及合格率。
搜索关键词: 半导体 封装 结构 及其 形成 方法
【主权项】:
1. 一种半导体封装结构,包括:基板,包括至少一个含有光感应元件的曝露区;覆盖层,用于区隔该曝露区与外部环境,且该基板与覆盖层其中之一为基底,另一个为顶部结构;以及坝状结构,形成于该基底上以形成空穴区,其中该坝状结构的顶部具有凹槽,该坝状结构利用粘着剂与该顶部结构接合,且该空穴区对应该曝露区。
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