[发明专利]铭版结构及其制造方法无效
| 申请号： | 200810089655.5 | 申请日： | 2008-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN101556754A | 公开（公告）日： | 2009-10-14 |
| 发明（设计）人： | 陈志盟;邱德诚;邱健台 | 申请（专利权）人： | 嵩格光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G09F7/00 | 分类号： | G09F7/00;B32B33/00;B44F1/00;G03F7/20;B29C45/00 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙 洪;霍育栋 |
| 地址： | 中国台湾新竹县湖*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种铭版结构及其制造方法，其系先在光阻层上形成纳米等级的图案，再将此光阻层上的图案转印至铭版制程中所需的射出成型的母模上，然后依据此母模制作出具有纳米等级的图案的塑胶基板，并于此塑胶基板上形成共形反射层，以将光线在这些纳米等级的图案间的衍射效果显现出来。通过此技术手段，即可制作出成本低廉、容易印刷、具可挠性易贴附、轻且薄，以及具有金属质感与立体感的铭版。 | ||
| 搜索关键词： | 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种铭版的制造方法，包括下列步骤：提供一透光基板，该透光基板具有一第一表面与一第二表面，且该第一表面具有至少一组图案；在该透光基板的该第一表面上形成至少一色层；于该色层上形成至少一共形反射层；以及于该共形反射层上形成至少一第一保护层。
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