[发明专利]彩膜基板及其制造方法有效
| 申请号： | 200810101459.5 | 申请日： | 2008-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN101526685A | 公开（公告）日： | 2009-09-09 |
| 发明（设计）人： | 崔承镇 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘 芳 |
| 地址： | 100176北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种彩膜基板及其制造方法。彩膜基板包括基板和形成在基板内表面上的彩膜层，基板外表面上设置有用于分散外部入射光的黑矩阵。制造方法包括：在基板的外表面上沉积一层金属层；涂敷一层光刻胶；采用灰色调掩模板曝光并进行显影处理形成完全曝光区域、部分曝光区域和未曝光区域；采用第一次湿刻工艺将完全曝光区域的金属层刻蚀掉；采用灰化工艺将部分曝光区域的光刻胶去掉；利用蚀刻不足的第二次湿刻工艺将部分曝光区域的金属层表面刻蚀出凹凸形结构。本发明通过在朝向外部入射光一侧的基板外表面上设置具有分散外部入射光作用的黑矩阵，使进入LCD的外部入射光在黑矩阵处形成漫反射，从而防止晃眼，并提高可视性及画面的清晰度。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种彩膜基板，包括基板和形成在所述基板内表面上的彩膜层，其特征在于，所述基板外表面上设置有用于分散外部入射光的黑矩阵。
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