[发明专利]铜及其合金表面耐蚀的磷酸锆类化合物薄膜及其制备方法无效
| 申请号： | 200810106151.X | 申请日： | 2008-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN101275230A | 公开（公告）日： | 2008-10-01 |
| 发明（设计）人： | 张法智;崔兆慧;徐赛龙;张博文;段雪 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C23F15/00 | 分类号： | C23F15/00;C23G1/10;C23C18/54;B32B15/01;B32B33/00;B32B9/00 |
| 代理公司： | 北京华谊知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘月娥 |
| 地址： | 100029北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种铜及其合金表面耐蚀的磷酸锆类化合物薄膜及其制备方法，属于铜及其合金防腐技术领域。采用表面晶化法制备的。利用铜及铜合金为基体，在含有Zr4+和有机膦酸溶液中合成磷酸锆类化合物薄膜。通过控制反应条件来调变薄膜的疏密程度及薄膜的厚度，从而得到厚度在0.8～20μm之间的致密薄膜。优点在于：不需要经过疏水后处理，省略这一步繁琐的操作，制备的磷酸锆类化合物薄膜能有效阻隔腐蚀介质与基体的接触，耐腐蚀性能更好。薄膜与部件表面的结合力好，稳定性高，而且薄膜中不含有毒离子，对人体无任何毒害作用且对环境无污染。并且工艺简单、原料易得、成本低、重复性好。 | ||
| 搜索关键词： | 及其 合金 表面 磷酸 化合物 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种铜及其合金表面耐蚀的磷酸锆类化合物薄膜，其特征在于，磷酸锆类化合物薄膜是生长在铜及其合金表面上的薄膜，该磷酸锆类化合物是阳离子型层状化合物，每层都是由95％以上的在同一平面的Zr原子，以及将Zr原子夹在中间的上下两层磷酸根及其衍生物构成；薄膜是由平板状磷酸锆类化合物沿着与基板垂直的方向生长而得到；薄膜厚度在0.8～20μm之间，该薄膜具有疏水性，其与水滴的接触角在110～147°；
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