[发明专利]电解铜箔和布线板有效
申请号: | 200810107499.0 | 申请日: | 2008-12-10 |
公开(公告)号: | CN101545122A | 公开(公告)日: | 2009-09-30 |
发明(设计)人: | 铃木裕二;斋藤贵广 | 申请(专利权)人: | 古河电气工业株式会社 |
主分类号: | C25D1/04 | 分类号: | C25D1/04;C22F1/08;H05K1/09 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 刘 建 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种具有与轧制铜箔相同的柔软性、弯曲性或软性、弯曲性在轧制铜箔以上的电解铜箔,并且提供采用了该电解铜箔的具有柔软性、弯曲性的布线板。特别是,提供一种在电解铜箔中,在贴附该电解铜箔和聚酰亚胺薄膜时施加热的过程中,机械特性、柔软性得到改良,能够适应于电气设备的小型化的布线板用电解铜箔。本发明的电解铜箔是在阴极上电析而制成的电解铜箔,对该电解铜箔实施了式1所示的LMP值为8000以上的加热处理之后的结晶结构中,存在80%以上的结晶粒径为4μm以上的晶粒。式1:LMP=(T+273)×(20+Log(t)),其中,T是温度(℃),t是时间(Hr)。 | ||
搜索关键词: | 电解 铜箔 布线 | ||
【主权项】:
1. 一种电解铜箔,其是在阴极上进行电析而制成的电解铜箔,其中,在对该电解铜箔实施了如式1所示的LMP值为9000以上的加热处理之后的结晶分布中,存在80%以上的晶粒的最大长度为4μm以上的晶粒,式1:LMP=(T+273)×(20+Log(t))其中,T是温度(℃),t是时间(Hr)。
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