[发明专利]Q值改善的具有硅贯通孔围篱的芯片上电感器有效

专利信息
申请号: 200810111031.9 申请日: 2008-05-29
公开(公告)号: CN101404281A 公开(公告)日: 2009-04-08
发明(设计)人: 杨立群;杨明达;许昭顺 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 章社杲;吴贵明
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种提供芯片上电感器的绝缘的半导体结构,此半导体结构包含一半导体基材、形成于第一半导体基材上的一个或多个芯片上电感器、在一个或多个芯片上电感器的近处形成贯穿第一半导体基材的多个硅贯通孔、以及将多个硅贯通孔中至少一者耦合接地的一个或多个导体,其中,多个硅贯通孔提供一个或多个芯片上电感器的绝缘。
搜索关键词: 改善 具有 贯通 孔围篱 芯片 电感器
【主权项】:
1.一种半导体装置,包含:一第一半导体基材;一个或多个芯片上电感器,形成于所述第一半导体基材上;多个第一硅贯通孔,在所述一个或多个芯片上电感器的近处贯穿所述第一半导体基材;以及一个或多个导体,将所述多个第一硅贯通孔中的至少一个硅贯通孔耦合接地;其中,所述多个第一硅贯通孔提供所述一个或多个芯片上电感器的绝缘。
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