[发明专利]针对多模式逻辑单元可编程门阵列的工艺映射方法无效
| 申请号： | 200810118735.9 | 申请日： | 2008-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN101656535A | 公开（公告）日： | 2010-02-24 |
| 发明（设计）人： | 张琨;周华兵;陈陵都;刘忠立 | 申请（专利权）人： | 中国科学院半导体研究所 |
| 主分类号： | H03K19/177 | 分类号： | H03K19/177 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 100083北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种针对多模式逻辑单元可编程门阵列的工艺映射方法，该方法包括映射和合并两个步骤，首先对输入的与具体工艺无关的门级电路网表进行解析，并对解析的结果进行工艺映射，然后再根据多模式LC的约束信息对工艺映射结果进行合并处理，计算出多模式LC的模式配置值，得到最终优化的工艺相关的电路网表。利用本发明，解决了多模式逻辑单元结构FPGA的工艺映射问题，充分利用了基于两个LUT3的LC结构的优势。 | ||
| 搜索关键词： | 针对 模式 逻辑 单元 可编程 门阵列 工艺 映射 方法 | ||
【主权项】：
1、一种针对多模式逻辑单元可编程门阵列的工艺映射方法，其特征在于，该方法包括映射和合并两个步骤，首先对输入的与具体工艺无关的门级电路网表进行解析，并对解析的结果进行工艺映射，然后再根据多模式LC的约束信息对工艺映射结果进行合并处理，计算出多模式LC的模式配置值，得到最终优化的工艺相关的电路网表。
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