[发明专利]液晶显示器面板和掩模板有效
| 申请号： | 200810119136.9 | 申请日： | 2008-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN101661220A | 公开（公告）日： | 2010-03-03 |
| 发明（设计）人： | 吕敬 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;G03F1/00;G02F1/1362;G02F1/133 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘 芳 |
| 地址： | 100176北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种液晶显示器面板和掩模板，其中液晶显示器面板包括阵列基板和彩膜基板，在所述阵列基板有效区域的像素区域内形成有对位精度测量检查标记，在所述彩膜基板上与所述对位精度测量检查标记对应的位置形成有黑矩阵，所述黑矩阵用于遮挡所述对位精度测量检查标记。掩模板包括：重复使用区域和非重复使用区域，在所述重复使用区域和非重复使用区域的有效区域中设置有对位精度测量检查标记。本发明有效地解决了由对位不良而引发的问题，使得缝合对接(Stitch)区域的对位精度可以控制在所需要的范围之内，避免了薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)出现不良问题。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶显示器 面板 模板 | ||
【主权项】：
1、一种掩模板，包括重复使用区域和非重复使用区域，其特征在于，在所述重复使用区域和非重复使用区域的有效区域中设置有对位精度测量检查标记。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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