[发明专利]制造薄膜晶体管基板的方法和用在该基板中的感光组合物有效

专利信息
申请号: 200810134043.3 申请日: 2008-07-22
公开(公告)号: CN101355056A 公开(公告)日: 2009-01-28
发明(设计)人: 姜勋;金载星;郑壤镐;李羲国;金柄郁;尹赫敏;吕泰勋;崔相角 申请(专利权)人: 三星电子株式会社;株式会社东进世美肯
主分类号: H01L21/84 分类号: H01L21/84;H01L21/768;G03F7/027;G03F7/039;G03F7/016;G03F7/021
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 宋莉
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及制造薄膜晶体管基板的方法和用在该基板中的感光组合物。公开了一种制造具有高的感光度、耐热性、抗冲击性的薄膜晶体管基板的方法以及为其所用的感光组合物,该方法包括在绝缘基板上形成数据线路,通过涂布感光组合物而在数据线路上形成有机绝缘膜,该感光组合物包含三元共聚物,其中该三元共聚物得自以下单体:不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或其混合物,不饱和的含有环氧基团的化合物、以及烯属化合物。
搜索关键词: 制造 薄膜晶体管 方法 中的 感光 组合
【主权项】:
1.一种制造薄膜晶体管基板的方法,该方法包括:在绝缘基板上形成数据线路;通过涂布感光组合物而在该数据线路上形成有机绝缘膜,其中该感光组合物包含三元共聚物、基于100重量份该三元共聚物的约5-约100重量份的正型感光剂、基于100重量份该三元共聚物的约5-约20重量份的增塑剂、以及基于100重量份该感光组合物的约50-约90重量份的溶剂,其中该三元共聚物得自不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或其混合物,以及不饱和的含有环氧基团的化合物和烯属化合物;在该有机绝缘膜中图案化接触孔;和在该有机绝缘膜中形成像素电极,该像素电极通过该接触孔与该数据线路电连接。
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