[发明专利]光波导膜及其制造方法无效
| 申请号： | 200810144283.1 | 申请日： | 2008-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN101359069A | 公开（公告）日： | 2009-02-04 |
| 发明（设计）人： | 疋田贵巳;程野将行;长崎国夫 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/122 | 分类号： | G02B6/122;G02B6/13 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 张鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 光波导膜配备：具有包层和被所述包层覆盖的芯层的膜；以及粘着剂层，该粘着剂层形成在所述膜的至少单面，并在表面具有算术平均粗糙度为0.1微米～2.0微米的凹凸结构，而且频率1赫的扭转模式动态粘弹性测量得到的25℃的储存弹性模量为10兆巴～100兆巴。 | ||
| 搜索关键词： | 波导 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光波导膜，其特征在于，配备：具有包层和被所述包层覆盖的芯层的膜；以及粘着剂层，该粘着剂层形成在所述膜的至少单面，并在表面具有算术平均粗糙度为0.1微米～2.0微米的凹凸结构，而且频率1赫的扭转模式动态粘弹性测量得到的25℃的储存弹性模量为10兆巴～100兆巴。
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