[发明专利]基板清洗装置及具有该基板清洗装置的基板处理装置

摘要

一种基板清洗装置及具有该基板清洗装置的基板处理装置，具有清洗处理单元，所述清洗处理单元具有旋转卡盘，所述旋转卡盘用于在水平保持基板的同时，使基板绕贯穿基板中心的铅垂轴旋转。在旋转卡盘的外侧，设置有斜面清洗部。斜面清洗部具有清洗刷。清洗刷具有与铅直轴旋转对称的形状，并且具有上斜面清洗面、端面清洗面以及下斜面清洗面。端面清洗面是以垂直方向为轴心的圆筒面。上斜面清洗面从端面清洗面的上端向外侧上方倾斜延伸，下斜面清洗面从端面清洗面的下端向外侧下方倾斜延伸。

主权项

1.一种基板处理装置，相邻于曝光装置而配置，其特征在于，具有：处理部，其用于对基板进行处理，交接部，其相邻于所述处理部的一个端部而设置，用于在所述处理部和所述曝光装置之间进行基板的交接；所述处理部以及所述交接部中的至少一个具有对曝光处理前的基板进行清洗的基板清洗装置，所述基板清洗装置包括：基板旋转保持装置，其在保持基板的同时使基板旋转，端部清洗刷，其以能够接触所述基板旋转保持装置所保持的基板的端部的方式设置，刷旋转机构，其使所述端部清洗刷围绕与所述基板旋转保持装置所保持的基板的一面近似垂直的方向的旋转轴旋转；所述端部清洗刷具有：锥状的第一清洗面，其能够与由所述基板旋转保持装置保持的基板的一面侧的斜面区域接触，圆柱状的第二清洗面，其能够与由所述基板旋转保持装置保持的基板的端面区域接触，锥状的第三清洗面，其能够与由所述基板旋转保持装置保持的基板的另一面侧的斜面区域接触；所述第一、第二以及第三清洗面以所述旋转轴为中心一体设置。