[发明专利]立体线路的制作方法无效
申请号: | 200810144887.6 | 申请日: | 2008-07-31 |
公开(公告)号: | CN101640980A | 公开(公告)日: | 2010-02-03 |
发明(设计)人: | 曾子章;余丞博 | 申请(专利权)人: | 欣兴电子股份有限公司 |
主分类号: | H05K3/18 | 分类号: | H05K3/18 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种立体线路的制作方法。首先,提供一立体绝缘结构,且立体绝缘结构具有至少一凹凸面。接着,在凹凸面上形成一自组成薄膜,以全面覆盖凹凸面。然后,在自组成薄膜上形成一催化薄膜。之后,图案化自组成薄膜与催化薄膜。然后,以化学沉积法在催化薄膜上形成一立体线路结构。本发明可在立体绝缘结构的凹凸面上形成立体线路结构,而不需形成在已知的线路板上。 | ||
搜索关键词: | 立体 线路 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种立体线路的制作方法,包括:提供一立体绝缘结构,且该立体绝缘结构具有至少一凹凸面;在该凹凸面上形成一自组成薄膜,以全面覆盖该凹凸面;在该自组成薄膜上形成一催化薄膜;图案化该自组成薄膜与该催化薄膜;以及以化学沉积法在该催化薄膜上形成一立体线路结构。
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