[发明专利]清洗装置、清洗槽、清洗方法以及计算机可读存储介质无效
| 申请号： | 200810145609.2 | 申请日： | 2008-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN101362139A | 公开（公告）日： | 2009-02-11 |
| 发明（设计）人： | 野村进直;柳田芳明;须藤浩二;小林秀祐;芝野俊春 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社;富士通自动控制株式会社 |
| 主分类号： | B08B3/10 | 分类号： | B08B3/10;B08B3/12 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄纶伟 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种清洗装置，该清洗装置用于清洗放置在充满清洗流体的清洗槽中的清洗对象，该清洗装置包括：流控制单元，其在该清洗槽中产生该清洗流体的预定流；和排出单元，其设置在该清洗流体的预定流的流路径上，用于排出所述清洗流体。该清洗装置在利用该清洗流体清洗该清洗对象来去除该清洗对象的表面上的污染物时，利用该排出单元向该清洗槽外部排出该清洗流体。而且，提供了一种具有和该清洗装置的结构基本相同的结构的清洗槽。此外，还提供了一种使用如上所述清洗装置等而实现的清洗方法。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 装置 方法 以及 计算机 可读 存储 介质 | ||
【主权项】：
1.一种清洗装置，该清洗装置用于利用清洗流体对放置在充满该清洗流体的清洗槽中的清洗对象进行清洗，来去除该清洗对象的表面上的污染物，该清洗装置包括：流控制单元，其在所述清洗槽中产生所述清洗流体的预定流；以及排出单元，其设置在所述清洗流体的所述预定流的流路径上，用于排出所述清洗流体，其中，所述排出单元用于向所述清洗槽外部排出所述清洗流体。
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