[发明专利]布图方法以及显示元件无效
| 申请号： | 200810165628.1 | 申请日： | 2008-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN101431843A | 公开（公告）日： | 2009-05-13 |
| 发明（设计）人： | 西田伸洋 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;B32B9/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及布图方法以及显示元件，所述布图方法的特征在于，在对具有由至少1个有机区域和至少1个无机区域构成的气体阻隔层的显示元件用基板进行布图时，使用弱酸或者弱碱蚀刻液进行湿法蚀刻。通过该方法，能够在不对显示元件的性能产生不良影响的条件下进行高精度的布图。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 以及 显示 元件 | ||
【主权项】：
1. 一种显示元件用基板的布图方法，所述显示元件用基板具有由至少1个有机区域和至少1个无机区域构成的气体阻隔层，所述布图方法的特征在于，通过使用弱酸或弱碱的蚀刻液进行湿法蚀刻来进行布图。
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