[发明专利]气体阻隔性薄膜及采用了该薄膜的有机器件无效
| 申请号： | 200810165630.9 | 申请日： | 2008-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN101391498A | 公开（公告）日： | 2009-03-25 |
| 发明（设计）人： | 伊藤滋英;千贺武志 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;B32B33/00;B32B27/36;H01L51/44;H01L51/42;H01L51/00;H05B33/00;G06F3/041 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种气体阻隔性薄膜，其在挠性支撑基板的表面上设置至少1层的氢化氮化硅层和至少1层的氮化硅层。该薄膜具有高的气体阻隔性。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 阻隔 薄膜 采用 有机 器件 | ||
【主权项】：
1. 一种气体阻隔性薄膜，其特征在于，在挠性支撑基板的表面上具有至少1层的氢化氮化硅层和至少1层的氮化硅层。
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