[发明专利]盖玻片成形有效
申请号: | 200810168119.4 | 申请日: | 2008-09-27 |
公开(公告)号: | CN101515212A | 公开(公告)日: | 2009-08-26 |
发明(设计)人: | S·P·霍特林;钟志国;J·E·克拉一多 | 申请(专利权)人: | 苹果公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 赵 科 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 公开了具有形成在盖玻片背面上的共面单层触摸传感器的触摸传感器面板的制作。从制造观点可能期望在将基样玻璃分成分离的部分之前在基样玻璃上执行所有薄膜处理步骤。为了在分离之前在基样玻璃上执行薄膜处理,可在薄膜层之上涂敷诸如光致抗蚀剂之类的可去除的牺牲层。然后,可切割并分离基样玻璃,并可在去除牺牲层之前执行磨削和抛光步骤。在可替换实施例中,在涂敷保护性牺牲层之后,可利用主要在z方向上刻蚀的非常强的各向异性刻蚀来对盖玻片块进行干法刻蚀。在这个实施例中,刻蚀可利用光刻法而被图案化,以创建圆角或任何其他形状。然后可去除光致抗蚀剂。 | ||
搜索关键词: | 盖玻片 成形 | ||
【主权项】:
1.一种在衬底的一个侧面上制作多个触摸传感器面板的方法,包括:在衬底板的一个侧面上形成所述多个触摸传感器面板;在所述触摸传感器面板之上涂敷可去除的保护性牺牲层;分割所述衬底板,以分离所述多个触摸传感器面板;以及从所述多个触摸传感器面板中的每一个去除所述保护性牺牲层。
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