[发明专利]微型显示器的制作方法无效

专利信息
申请号: 200810173464.7 申请日: 2008-11-14
公开(公告)号: CN101740497A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 李政勋;吴沂庭;孙伟宸;姜元升 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L21/82 分类号: H01L21/82;H01L21/822;H01L21/311
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 蒲迈文
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种微型显示器的制作方法,其是先提供具有像素区与周边电路区的基底,其中像素区已形成有金属反射层,且周边电路区已形成有周边电路。然后,在基底上形成介电层,以覆盖像素区与周边电路区。接着,在介电层上形成图案化掩模层,此图案化掩模层暴露出位于金属反射层上方的介电层。而后,以图案化掩模层为掩模,移除暴露出的介电层的一部分。继之,移除图案化掩模层。之后,移除部分介电层,以暴露出金属反射层。
搜索关键词: 微型 显示器 制作方法
【主权项】:
一种微型显示器的制作方法,包括:提供基底,该基底具有像素区与周边电路区,其中该像素区已形成有金属反射层,且该周边电路区已形成有周边电路;于该基底上形成介电层,以覆盖该像素区与该周边电路区;于该介电层上形成图案化掩模层,该图案化掩模层暴露出位于该金属反射层上方的该介电层;以该图案化掩模层为掩模,移除暴露出的该介电层的一部分;移除该图案化掩模层;以及移除部分该介电层,以暴露出该金属反射层。
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