[发明专利]用于分析干式化学测试元件的方法和装置有效

专利信息
申请号: 200810173707.7 申请日: 2008-09-10
公开(公告)号: CN101398383A 公开(公告)日: 2009-04-01
发明(设计)人: E·亨德勒;C·埃芬豪泽;N·奥兰特 申请(专利权)人: 霍夫曼-拉罗奇有限公司
主分类号: G01N21/75 分类号: G01N21/75;G01N33/53
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王 岳;刘春元
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 用于分析干式化学测试元件的方法和装置,特别是免疫测试元件,通过光学扫描分析干式化学测试元件,测量光束离开载有一种或多种固定化光活性物质的测试元件化验区,通过检测器检测各自测量光强度。包括步骤:第一化验区光学扫描过程中,第一测量光强度的测量光束离开第一化验区,根据扫描参数的第一设置选择扫描参数,对检测器装置的工作范围和照射到其上测量光束的第一光量,相对彼此进行调整,第二化验区光学扫描过程中,区别于第一测量光强度的第二测量光强度测量光束离开第二化验区,根据区别于扫描参数第一设置的扫描参数第二设置选择扫描参数,对检测器装置的工作范围和照射到其上的测量光束第二光量,相对于彼此进行调整。
搜索关键词: 用于 分析 化学 测试 元件 方法 装置
【主权项】:
1. 一种分析干式化学测试元件的方法,尤其免疫学测试元件,其中利用光学扫描分析干式化学测试元件,由此,测量光束离开测试元件(1;20;30;50)的化验区(21;41;51),所述化验区(21;41;51)载有一种或多种固定的光活性物质,利用检测器装置(4)检测各测量光强度,所述的方法包括以下步骤:第一化验区光学扫描过程中,具有第一测量光强度的测量光束离开该第一化验区,根据扫描参数的第一设置选择扫描参数,对检测器装置(4)的工作范围和照射到检测器装置(4)的测量光束的第一光量,相对于彼此进行调整,和第二化验区光学扫描过程中,具有区别于第一测量光强度的第二测量光强度的测量光束离开第二化验区,根据区别于扫描参数的第一设置的扫描参数的第二设置选择扫描参数,对检测器装置(4)的工作范围和照射到检测器装置(4)的测量光束的第二光量,相对于彼此进行调整。
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