[发明专利]膜形成方法及电光装置有效

专利信息
申请号: 200810174604.2 申请日: 2008-10-28
公开(公告)号: CN101422770A 公开(公告)日: 2009-05-06
发明(设计)人: 铃木克己 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: B05D1/00 分类号: B05D1/00;B05D3/00;B05D7/24;B05C5/00;B05C11/10;B41J2/01
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李贵亮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种能够防止膜形成时材料液向外缘部移动,从而防止外缘部的膜厚比其他部分厚的膜形成方法以及显示质量高的电光装置。所述膜形成方法的特征在于,具有:隔壁形成工序,其在涂敷区域(LA)形成框状的隔壁(11);材料液涂敷工序,其在涂敷区域(LA)涂敷材料液(L);干燥工序,其使材料液(LA)干燥,其中,在隔壁形成工序中,在比涂敷区域(LA)的外缘(LE)靠涂敷区域(LA)的中央(C)侧,形成隔壁(11)的中央(C)侧的侧面(12b),隔壁(11)的高度(h)形成为小于材料液(L)在涂敷时的膜厚(T)且在干燥后的膜(16)的膜厚(t)以上。
搜索关键词: 形成 方法 电光 装置
【主权项】:
1. 一种膜形成方法,其在基材的涂敷区域涂敷材料液,并使所述材料液干燥而形成膜,所述膜形成方法的特征在于,具有:隔壁形成工序,其在所述涂敷区域形成框状的隔壁;材料液涂敷工序,其在所述涂敷区域涂敷所述材料液;干燥工序,其使所述材料液干燥,其中,在所述隔壁形成工序中,在比所述涂敷区域的外缘靠所述涂敷区域的中央侧,形成所述隔壁的所述中央侧的侧面,所述隔壁的高度形成为小于所述材料液在涂敷时的膜厚且在干燥后的所述膜的膜厚以上。
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