[发明专利]抗静电光学膜无效
| 申请号： | 200810177005.6 | 申请日： | 2008-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN101738646A | 公开（公告）日： | 2010-06-16 |
| 发明（设计）人： | 陈毓淞;吴明旗;赖品诚 | 申请（专利权）人： | 迎辉科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B5/04 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种抗静电光学膜，包含：一个具有一第一阻抗值R1的基材及一设置在该基材的表面的抗静电层，该抗静电层具有一第二阻抗值R2，且R2＜1013Ω/mm2，R1/R2＜1010。通过抗静电层来提供光学膜抗静电功能，而且第二阻抗值R2要够小，才有利于静电的快速消失并提升抗静电效果，因此R2＜1013Ω/mm2。而R1与R2的差值不可过大，以避免静电电荷累积于高阻抗表面上，因此R1/R2＜1010。本发明通过控制抗静电层的R2值大小，以及R2、R1值差异，可以提供良好抗静电效果。 | ||
| 搜索关键词： | 抗静电 光学 | ||
【主权项】：
一种抗静电光学膜，包含：一个基材以及一层设置在该基材的表面的抗静电层，其特征在于，该基材具有一个第一阻抗值R1，该抗静电层具有一个第二阻抗值R2，且R2＜1013Ω/mm2，R1/R2＜1010。
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