[发明专利]反式取代环己烷羧酸类、以及反式/反式二环己烷二羧酸类的制造方法无效
| 申请号： | 200810178084.2 | 申请日： | 2008-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN101462939A | 公开（公告）日： | 2009-06-24 |
| 发明（设计）人： | 浜崎亮;野吕正树;田中悟史 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | C07C51/60 | 分类号： | C07C51/60;C07C51/04;C07C67/14;C07C231/02;C07C37/48 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供反式取代环己烷羧酸类、以及反式/反式二环己烷二羧酸类的制造方法。本发明的目的是提供一种反式体的比例高的取代环己烷羧酸类的新型制造方法，其中，在强酸的存在下，将反式体的比例为a％(其中0≤a)的取代环己烷羧酸的羧基转变为卤代羰基，从而得到反式体的比例为b％(其中a＜b)的取代环己烷羧酸酰卤，进而将得到的取代环己烷羧酸酰卤的卤代羰基水解，从而得到反式体的比例为c％(其中a＜c)的取代环己烷羧酸；以及使得到的取代环己烷羧酸酰卤与含有羟基的化合物或含有氨基的化合物或含氮杂环化合物反应，从而得到反式体的比例为d％(其中a＜d)的取代环己烷羧酸酯或取代环己烷羧酸酰胺。 | ||
| 搜索关键词： | 反式 取代 环己烷 羧酸 以及 二羧酸 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制造取代环己烷羧酸酰卤的方法，其中，在强酸的存在下，将反式体的比例为a％的取代环己烷羧酸的羧基转变为卤代羰基，从而制造反式体的比例为b％的取代环己烷羧酸酰卤，其中0≤a，a
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