[发明专利]发光装置、电子设备以及成膜方法无效

专利信息
申请号: 200810182764.1 申请日: 2008-12-04
公开(公告)号: CN101452947A 公开(公告)日: 2009-06-10
发明(设计)人: 新东晋;四谷真一 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/50;H01L51/56;H01L51/00;C23C16/04;C23C14/04
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 雒运朴;李 伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及发光装置、电子设备以及成膜方法。发光装置具备:包含像素电极(13)、发光功能层(18)及对置电极(5)的有机EL元件(8);形成在对置电极上且具有与该对置电极的直接接点的辅助电极(501);和以覆盖辅助电极及对置电极的方式形成、对有机EL元件防止水以及氧的进入的屏障层(40)。并且,辅助电极俯视沿第一方向以线状延伸,与该第一方向相交的方向的剖面形状包含锥形形状。由此,能够使有机EL元件长寿命化。
搜索关键词: 发光 装置 电子设备 以及 方法
【主权项】:
1. 一种发光装置,其特征在于,具备:基板;包含在所述基板上按顺序依次形成的下层侧电极、发光功能层以及上层侧电极的发光元件;形成在所述上层侧电极上且具有与该上层侧电极的直接接点的辅助电极;和以覆盖所述辅助电极及所述上层侧电极的方式形成、防止水以及氧的至少一方进入所述发光元件的屏障层;所述辅助电极包含一个以上俯视沿第一方向延伸的线状辅助电极,该线状辅助电极的与所述第一方向相交的方向的剖面形状包含锥形形状。
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