[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 200810183704.1 | 申请日: | 2008-12-03 |
公开(公告)号: | CN101527320A | 公开(公告)日: | 2009-09-09 |
发明(设计)人: | 山崎舜平;宫入秀和;神保安弘 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L27/12 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 柯广华;王丹昕 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及半导体装置。本发明的目的在于:降低薄膜晶体管的截止电流;提高薄膜晶体管的电特性;提高使用薄膜晶体管的显示装置的图像质量。本发明提供一种薄膜晶体管,包括:在栅电极上隔着栅极绝缘膜设置在不到达该栅电极的端部的内侧区域的半导体膜;至少覆盖半导体膜的侧面的膜;以及形成在覆盖半导体膜的侧面的膜上的一对布线,其中,半导体膜中添加有用作供体的杂质元素。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
1.一种包括薄膜晶体管的半导体装置,包括:包括内侧区域和端部的栅电极;形成在所述栅电极上的栅极绝缘膜;形成在所述栅极绝缘膜上的半导体膜,该半导体膜重叠于所述内侧区域,并且不重叠于所述端部;以覆盖所述半导体膜的侧面的方式形成的膜;形成在所述膜上的源极布线;以及形成在所述膜上的漏极布线,其中,所述侧面中间夹着所述膜与所述源极布线及所述漏极布线中的一个面对,并且,所述膜不是导电膜。
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