[发明专利]保护层及其制备方法和含该保护层的等离子体显示面板无效
申请号: | 200810183768.1 | 申请日: | 2008-12-15 |
公开(公告)号: | CN101459022A | 公开(公告)日: | 2009-06-17 |
发明(设计)人: | 李玟锡;崔钟书;金奭基;尤里·马图莱维科;金哉赫;徐淳星;秋希伶 | 申请(专利权)人: | 三星SDI株式会社 |
主分类号: | H01J17/02 | 分类号: | H01J17/02;H01J9/00;H01J17/49 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 张 波 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及等离子体显示面板(PDP)的保护层,制备该保护层的方法,和包括该保护层的PDP。保护层包含可以使具有镁空位杂质中心(VIC)的含镁氧化物颗粒附着其上的表面的含镁氧化物层。保护层可以阻挡等离子体离子且具有极好的电子发射效应,因此,包含该保护层的PDP可以在具有高放电效率的低电压下工作。 | ||
搜索关键词: | 保护层 及其 制备 方法 等离子体 显示 面板 | ||
【主权项】:
1. 一种用于等离子体显示面板的保护层,包括:含镁氧化物层;和在所述含镁氧化物层表面上形成的含镁氧化物颗粒,所述含镁氧化物颗粒具有镁空位杂质中心。
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