[发明专利]结合物理气相沉积及电着沉积的制作方法无效
| 申请号： | 200810187341.9 | 申请日： | 2008-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN101760740A | 公开（公告）日： | 2010-06-30 |
| 发明（设计）人： | 庄欣颖 | 申请（专利权）人： | 及成企业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;C23C14/34;C25D13/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;张燕华 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种结合物理气相沉积及电着沉积的制作方法，其步骤包括提供一被镀物基材；在该被镀物基材的一表面以一物理气相沉积形成有一碳化层；在该碳化层表面再以另一物理气相沉积形成有一导电层；在该导电层表面以一电着沉积形成有一外表层；为此，可在被镀物基材上形成一复合式均匀镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 结合 物理 沉积 制作方法 | ||
【主权项】：
一种结合物理气相沉积及电着沉积的制作方法，其特征在于，步骤包括：a)提供一被镀物基材；b)在该被镀物基材的一表面以一物理气相沉积形成有一碳化层；c)在该碳化层表面再以另一物理气相沉积形成有一导电层；及d)在该导电层表面以一电着沉积形成有一外表层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于及成企业股份有限公司，未经及成企业股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810187341.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
