[发明专利]掩模对准系统及其方法有效

专利信息
申请号: 200810203806.5 申请日: 2008-12-01
公开(公告)号: CN101424885A 公开(公告)日: 2009-05-06
发明(设计)人: 唐文力;王海江;涂泽恩;宋海军;李运锋 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所 代理人: 屈 蘅;李时云
地址: 201203上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提出一种基于电光调制光源的掩模对准系统及其方法。本发明提出一种基于电光调制光源的掩模对准系统,掩模对准系统包括光源、电光调制模块、掩模板、信号接收控制单元。光源发出一对准光束,对准光束垂直穿过电光调制模块,且电光调制模块将对准光束调制为具有特定频率的调制光束;掩模板包含掩模对准标记,调制光束透过掩模对准标记;信号接收控制单元,接收上述调制光束,并控制上述掩模板的位置和姿态。本发明基于电光调制光源的掩模对准系统是利用电光调制单元对光源进行特定频率的调制,大大提高信号源信噪比,提高信号的抗干扰性。
搜索关键词: 对准 系统 及其 方法
【主权项】:
1. 一种基于电光调制光源的掩模对准系统,包括发出对准光束的光源以及具有掩模对准标记的掩模板,其特征在于,还包括:电光调制模块,光源发出的对准光束垂直穿过上述电光调制模块,且上述电光调制模块利用调制信号将上述对准光束调制为具有特定频率的调制光束,上述调制光束透过上述掩模对准标记;信号接收控制单元,接收透过上述掩模对准标记的调制光束,并控制上述掩模板的位置和姿态。
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