[发明专利]一种天线制造的三维光刻方法无效
| 申请号： | 200810204054.4 | 申请日： | 2008-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN101752643A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 宋玉明;欧立文;张新山;卢晓峰;戴丰;于松涛;唐永玲 | 申请（专利权）人： | 上海安费诺永亿通讯电子有限公司 |
| 主分类号： | H01Q1/00 | 分类号： | H01Q1/00;H01Q1/38;G03F7/00 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人： | 夏平 |
| 地址： | 201108 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种天线制造的三维光刻方法，包括提供一基体结构件，基体结构件的表面形成导电层，导电层的外面形成感光油墨层，遮蔽，曝光，显影，蚀刻过程，特征为基体结构件为三维，并且形成的导电层，导电层外面的形成的感光油墨层，遮蔽和曝光过程都是对三维表面进行。本发明中，三维天线的图形可以一次形成，缩短生产周期，满足大批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 天线 制造 三维 光刻 方法 | ||
【主权项】：
一种天线制造的三维光刻方法，包括：提供基体结构件，在基体结构件的表面形成导电层，导电层的上面形成感光油墨层，以及遮蔽，曝光，显影，蚀刻过程，其特征在于：所述导电层形成在基体结构件的三维表面上，所述的感光油墨层形成在导电层的三维表面上，所述的遮蔽和曝光过程都是对感光油墨层的三维表面进行。
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