[发明专利]用于制造存储介质的方法无效
| 申请号： | 200810213348.3 | 申请日： | 2008-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN101377930A | 公开（公告）日： | 2009-03-04 |
| 发明（设计）人： | 奥村浩祥;山川荣进 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;B24B29/02 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉;吕俊刚 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及用于制造存储介质的方法。根据实施方式的一个方面，一种用于制造存储介质的方法包括以下步骤：提供引导组件及用于形成存储介质的介质板组件；以及设置所述介质板组件及所述引导组件，使得所述介质板组件与所述引导组件彼此靠近，并且所述介质板组件的表面与所述引导组件的表面形成基本上公共的平面。该方法还包括以下步骤：将用于对所述介质板组件进行抛光的抛光组件引导到所述引导组件的表面上；以及将所述引导组件上的所述抛光组件滑动到所述介质板组件上，以对所述介质板组件的表面进行抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 存储 介质 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于制造存储介质的方法，该方法包括以下步骤：提供引导组件及用于形成存储介质的介质板组件；设置所述介质板组件及所述引导组件，使得所述介质板组件与所述引导组件彼此靠近，并且所述介质板组件的表面与所述引导组件的表面形成基本上公共的平面；将用于对所述介质板组件进行抛光的抛光组件引导到所述引导组件的表面上；以及将所述引导组件上的所述抛光组件滑动到所述介质板组件上，以对所述介质板组件的表面进行抛光。
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