[发明专利]形成低电容的ESD器件的方法及其结构有效

专利信息
申请号: 200810214224.7 申请日: 2008-08-21
公开(公告)号: CN101393912A 公开(公告)日: 2009-03-25
发明(设计)人: T·基纳;张基;F·Y·罗伯;刘明焦;A·萨利;小约翰·M·帕熙;张基松 申请(专利权)人: 半导体元件工业有限责任公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/08;H01L21/822
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 党建华
地址: 美国亚*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 在一个实施方式中,ESD器件使用在该ESD器件内深处的高掺杂的P型区域和N型区域以形成具有受控的击穿电压的齐纳二极管。
搜索关键词: 形成 电容 esd 器件 方法 及其 结构
【主权项】:
1. 一种ESD器件,其包括:所述ESD器件的第一端子;所述ESD器件的第二端子;齐纳二极管,其具有耦合到所述ESD器件的所述第二端子的正极,并且还具有负极;第一P-N二极管,其被耦合为与所述齐纳二极管串联,所述第一P-N二极管具有正极和负极;以及第二P-N二极管,其被耦合为与所述齐纳二极管和所述第一P-N二极管的串联组合并联,所述第二P-N二极管具有负极,并且还具有被耦合到所述齐纳二极管的所述正极和所述ESD器件的所述第二端子的正极。
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