[发明专利]半导体装置无效

专利信息
申请号: 200810215396.6 申请日: 2005-12-19
公开(公告)号: CN101373776A 公开(公告)日: 2009-02-25
发明(设计)人: 吉田雅昭 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;G11C16/04;G11C16/30
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 王冉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明揭示了一种半导体装置,包括具有存储晶体管和选择晶体管的非易失性存储单元和周边电路晶体管。该存储晶体管包括设置在半导体基板上的存储栅氧化膜和设置在该存储栅氧化膜上由多晶硅制成的浮置栅极。该选择晶体管与该存储晶体管串联连接,并且包括设置在该半导体基板上的选择栅极氧化膜和设置在该选择栅极氧化膜上由多晶硅制成的选择栅。该周边电路晶体管包括设置在该半导体基板上的周边电路栅氧化膜和设置在该周边电路栅氧化膜上由多晶硅制成的周边电路栅。该存储栅氧化膜设置成比该周边电路栅氧化膜薄。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
1.一种半导体装置,包括:分配器电阻电路,配置成通过电压分配获得电压输出并且通过切断一个或多个熔丝元件调整该电压输出;该分配器电阻电路,包括多个阻值调节电阻元件,串联连接;多个熔丝MOS晶体管,用作该熔丝元件,与该阻值调节电阻元件并联连接;非易失性存储单元,包括存储晶体管和选择晶体管,该存储晶体管由MOS晶体管实现,包括设置在半导体基板上的存储栅氧化膜和设置在该存储栅氧化膜上由多晶硅制成的浮置栅极,该浮置栅极处在电浮置状态;该选择晶体管由串联连接到该存储晶体管上的MOS晶体管实现,并且包括设置在该半导体基板上的选择栅氧化膜和设置在该选择栅氧化膜上由多晶硅制成的选择栅;和读电路,用于根据该非易失性存储单元的该存储状态开/关该熔丝MOS晶体管;其中该熔丝MOS晶体管和该读电路中的至少一个配置为由MOS晶体管实现的周边电路晶体管,该周边电路晶体管包括设置在该半导体基板上的周边电路栅氧化膜和设置在该周边电路栅氧化膜上由多晶硅制成的周边电路栅,该周边电路栅的该多晶硅设置成具有比该浮置栅极的该多晶硅内的杂质浓度高的杂质浓度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理光,未经株式会社理光许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810215396.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top