[发明专利]微电子设备清洗剂有效
| 申请号： | 200810235553.X | 申请日： | 2008-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN101463296A | 公开（公告）日： | 2009-06-24 |
| 发明（设计）人： | 仲跻和 | 申请（专利权）人： | 江苏海迅实业集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/72 | 分类号： | C11D1/72 |
| 代理公司： | 南京众联专利代理有限公司 | 代理人： | 卢 霞 |
| 地址： | 226600江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种微电子设备清洗剂，按照重量百分比包括如下组份：无机盐为3～10，表面活性剂为5～10，渗透剂为5～10，缓蚀剂为1～5，pH值调节剂为1～6；去离子水余量。本发明的微电子设备清洗剂，具有如下技术效果：1)本发明配方科学合理，生产工艺简单，不需要特殊设备；2)清洗能力强，清洗时间短，节省人力和工时，提高工作效率，且具有除锈和防锈功效；3)为水溶性清洗剂，对设备的腐蚀性低，使用安全可靠。 | ||
| 搜索关键词： | 微电子 设备 洗剂 | ||
【主权项】：
1、一种微电子设备清洗剂，其特征在于，按照重量百分比包括如下组份：无机盐 3～10表面活性剂 5～10渗透剂 5～10缓蚀剂 1～5PH调节剂 1～6去离子水 余量，其中，所说的无机盐为磷酸钠、磷酸二钠、硫酸钠、硫酸三钾或氯化钾；所说的表面活性剂是非离子型表面活性剂，为脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基醇酰胺；所说的渗透剂是脂肪醇聚氧乙烯醚或者乙二醇醚类化合物；所说的缓蚀剂为苯骈三氮唑钠或钨酸钠；所说的PH调节剂是无机碱、有机碱或者其组合；无机碱是氢氧化钠或氢氧化钾；有机碱是多羟多胺和胺中的一种或多种。
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