[实用新型]一种用于等离子体增强化学气相沉积的进气电极板无效

专利信息
申请号: 200820011459.1 申请日: 2008-03-06
公开(公告)号: CN201158705Y 公开(公告)日: 2008-12-03
发明(设计)人: 吴向方;赵俊华;梁玉生 申请(专利权)人: 辽宁聚智科技发展有限公司
主分类号: C23C16/50 分类号: C23C16/50
代理公司: 辽宁沈阳国兴专利代理有限公司 代理人: 张立新
地址: 110164辽宁省沈阳*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及一种等离子体电极板,尤其涉及对薄膜的沉积提供进均匀进气匀气的一种用于等离子体增强化学气相沉积的进气电极板。是由下述结构构成:等离子体输出板、电极腔体,在电极腔体内设有匀气障板和电极匀气板,匀气障板设在电极腔体上的出气口处,出气口与进气管连接,射频电缆设在进气管上,电极匀气板将电极腔体隔离成第一匀气腔和第二匀气腔。本实用新型的优点效果:匀气障板缓冲了出气口的气体,使在第一匀气腔内产生均匀气场和高密度均匀等离子体,结构简单、便于批量生产和维护,提高了可靠性,降低了成本。
搜索关键词: 一种 用于 等离子体 增强 化学 沉积 进气电 极板
【主权项】:
1、一种用于等离子体增强化学气相沉积的进气电极板,包括等离子体输出板、电极腔体,其特征在于由下述结构构成:在电极腔体内设有匀气障板和电极匀气板,匀气障板设在电极腔体上的出气口处,出气口与进气管连接,射频电缆设在进气管上,电极匀气板将电极腔体隔离成第一匀气腔和第二匀气腔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于辽宁聚智科技发展有限公司,未经辽宁聚智科技发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200820011459.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top