[实用新型]智能化瓷砖真空离子镀膜设备无效
| 申请号： | 200820018755.4 | 申请日： | 2008-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN201165546Y | 公开（公告）日： | 2008-12-17 |
| 发明（设计）人： | 王桂岳;栾国栋;栾庚祖;隋洪文 | 申请（专利权）人： | 王桂岳 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/28 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 265702山东省龙口市*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型属于真空镀膜技术领域，具体涉及一种智能化瓷砖真空离子镀膜设备。一种智能化瓷砖真空离子镀膜设备，包括与真空抽气系统相连的真空室、转件架式多功能样品台、均布于真空室两侧的电弧金属离子源和PLC可编程集中控制器，其特征是转件架式多功能样品台与真空室绝缘，气体离子清洗源的清洗电极位于转件架式多功能样品台上，并与真空室外气体离子清洗电源相连，电弧金属离子源为30个，离子源与镀件间距为150mm。具有镀膜层的质量和效果好，低损耗、体积小，膜－基结合力强的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 智能化 瓷砖 真空 离子 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
1、一种智能化瓷砖真空离子镀膜设备，包括与真空抽气系统(7)相连的真空室(4)、转件架式多功能样品台(5)、均布于真空室两侧的电弧金属离子源(2)和PLC可编程集中控制器，其特征是转件架式多功能样品台(5)与真空室绝缘，气体离子清洗源的清洗电极(6)位于转件架式多功能样品台(5)上，并与真空室外气体离子清洗电源(1)相连，电弧金属离子源(2)为30个，离子源与镀件(3)间距为150mm。
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