[实用新型]大面积抗反射导电膜连续磁控溅射镀膜生产线

摘要

大面积抗反射导电膜连续磁控溅射镀膜生产线，它包括在机座横向方向上布设数个依次相邻、且与抽气系统连通的由预抽室等组成的真空室组区以及紧邻的进片区、出片区，进片区由进片平移架等组成，出片区由出片平移架等组成，于真空室组区、进片区和出片区上设置磁导向传送装置并与适配的工件回行架组成沿装载架镀膜运行方向和装载架回行运行方向连续循环运行的生产环路，实现基片的大面积抗反射导电膜的连续磁控溅射镀膜的技术方案，它克服了传统透明导电膜生产线，透过率范围不高，无传送室，基片装载架的传送速度转换比小，生产效率较低等缺陷。它适合用于各类显示面板、太阳能面板和装饰面板的透明导电膜、抗反射膜、高反射膜等大面积镀膜的生产。

主权项

1、一种大面积抗反射导电膜连续磁控溅射镀膜生产线，其特征在于它包括在机座(1)横向方向上布设数个依次相邻、且与抽气系统连通的由预抽室(21)、前过渡室(22)、前传送室(23)、介质膜镀膜室I(24a)、介质膜镀膜室II(24b)、介质膜镀膜室III(24c)、介质膜镀膜室IV(24d)、介质膜镀膜室V(24e)、隔离传送室I(25a)、隔离室(26)、隔离传送室II(25b)、导电膜镀膜室(27)、后传送室(28)和后过渡室(29)组成的真空室组区(2)以及紧邻的进片区(3)、出片区(4)，所述进片区(3)由进片平移架(31)、进片架(32)组成，所述出片区(4)由出片室(41)、出片架I(4a)、出片架II(4b)、出片平移架(42)组成，于所述真空室组区(2)、进片区(3)和出片区(4)上设置磁导向传送装置(5)并与适配的工件回行架(6)组成沿装载架镀膜运行方向(A)和装载架回行运行方向(B)连续循环运行的生产环路，实现基片的大面积抗反射导电膜的连续磁控溅射镀膜。