[实用新型]定点式厚膜真空溅镀设备无效
| 申请号： | 200820118573.4 | 申请日： | 2008-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN201224758Y | 公开（公告）日： | 2009-04-22 |
| 发明（设计）人： | 姚朝祯;李智渊 | 申请（专利权）人： | 钰衡科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京高默克知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陆式敬 |
| 地址： | 中国台湾台南县*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种定点式厚膜真空溅镀设备，包括有至少一支撑框架，系由复数个矩形框体与复数个杆体所组立之立体框架；至少一制程室，系设置于该支撑框架上，其内部之两相对侧设置有内部传动装置，并于该内部传动装置上方设置有感应装置；至少一磁控室，系设置于该制程室上方，其内部设有具复数个溅镀靶材之溅镀阴极，并于外围设有复数个补强肋；至少一制程室闸门阀，系设置于该制程室外部之一侧；藉此可达到定点式溅镀的目的，以改善连续式溅镀设备用于厚膜制程的缺失，故可节省生产成本并提升厚膜溅镀效率。 | ||
| 搜索关键词： | 定点 式厚膜 真空 设备 | ||
【主权项】：
1. 一种定点式厚膜真空溅镀设备，其特征在于：它包括：至少一支撑框架，系由复数个矩形框体与复数个杆体所组立之立体框架；至少一制程室，系设置于该支撑框架上，其内部之二相对侧设置有内部传动装置，并于该内部传动装置上方设置有感应装置；至少一磁控室，系设置于该制程室上方，其内部设有具复数个溅镀靶材之溅镀阴极，并于外围设有复数个补强肋；至少一制程室闸门阀，系设置于该制程室外部之一侧。
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