[实用新型]研磨垫有效
| 申请号： | 200820119261.5 | 申请日： | 2008-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN201267964Y | 公开（公告）日： | 2009-07-08 |
| 发明（设计）人： | 施文昌;王昭钦;庄志成;涂良池 | 申请（专利权）人： | 智胜科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24D17/00 | 分类号： | B24D17/00;B24D3/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海天翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘粉宝 |
| 地址： | 中国台湾*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种研磨垫，其包括一研磨层、一透明视窗设置于研磨层中，以及若干填充颗粒散布于透明视窗中以减少短波长的光线的穿透。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 | ||
【主权项】：
1、一种研磨垫，其特征在于，包括：一研磨层；一透明视窗，设置于所述研磨层中；以及若干填充颗粒，散布于所述透明视窗中，所述若干填充颗粒可减少可见光以下波长的光线的穿透。
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