[实用新型]沉积室遮挡装置及相应的沉积室壁有效
| 申请号： | 200820152786.9 | 申请日： | 2008-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN201250282Y | 公开（公告）日： | 2009-06-03 |
| 发明（设计）人： | 张林;顾琛 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C16/04 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈 蘅;李时云 |
| 地址： | 2012*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型揭露了一种沉积室遮挡装置及相应的沉积室壁。该沉积室遮蔽装置的外表面形状是根据现有沉积室内壁形状而设计，将其置入沉积室内，使其内表面直接与反应空间相接触，从而使沉积室内反应所产生的聚合物大部分沉积在遮挡装置内表面上。这样，每次预防保养时，仅需将遮挡装置取出更换，此时沉积室内壁沉积的聚合物很少，对其清理过程简单，无需进行刮内壁的操作，避免了聚合物的乱飞现象，减少了预防保养的时间并降低了集成电路缺陷等问题的出现几率。以上沉积室遮挡装置包括第一环状部与第二环状部，其中第一环状部的外径大于第二环状部的外径。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 遮挡 装置 相应 | ||
【主权项】：
1. 一种沉积室遮挡装置，其特征是，包括：第一环状部与第二环状部，其中所述第一环状部的外径大于第二环状部的外径。
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