[发明专利]制造离散轨道记录介质的方法和离散轨道记录介质无效
| 申请号： | 200880000660.2 | 申请日： | 2008-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN101542609A | 公开（公告）日： | 2009-09-23 |
| 发明（设计）人： | 镰田芳幸;白岛聪志;木村香里;樱井正敏 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G11B5/65 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;于 静 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 根据本发明一个实施例，一种制造离散轨道记录介质的方法包括：在衬底上形成突起的磁性图形；伴随着将所述衬底沿其平面旋转小于一周的角度而两次或更多次重复这样的工艺，即，沉积非磁性材料以填充在所述磁性图形之间的凹进中和回蚀所述非磁性材料。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 离散 轨道 记录 介质 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造离散轨道记录介质的方法，包括：在衬底上形成突起的磁性图形；以及伴随着将所述衬底沿其平面旋转小于一周的角度而两次或更多次重复这样的工艺，即，沉积非磁性材料以填充在所述磁性图形之间的凹进中和回蚀所述非磁性材料。
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