[发明专利]使用多相溶液进行基片清洁的技术

摘要

一种清洁上面有粒状物的半导体基片的相对表面的方法和系统。该方法包括在流体和该基片间产生相对移动。该相对移动在横穿(transverse)该相对表面之一的法线的方向上并产生两个间隔开的液流。每个液流邻近该相对表面中的一个，该表面不同于邻近该多个液流的剩余液流的该相对表面。该流体具有散布于其中的耦合单元，而建立该相对移动以向该耦合单元的子集上施加足够的牵引以产生该子集的该耦合单元在该流体中的移动。以这种方式，向该粒状物上施加一定量的牵引以使该粒状物相对于该基片移动。

主权项

1.一种用于清洁多个具有相对表面的基片的方法，其中至少一个基片上包括污染物，所述方法包括：通过将其中包含了多个基片的盒暴露至溶液，在所述多个基片和所述溶液之间同时产生相对移动，其中所述溶液有散布其中的耦合单元且所述相对移动在所述耦合单元的子集上施加足够的牵引以产生有所述子集的该耦合单元在所述溶液中的移动并在所述污染物上施加一定量的牵引以导致所述污染物相对于所述基片移动。