[发明专利]光罩用基板、光罩用基板的成形构件、光罩用基板的制造方法、光罩、及使用光罩的曝光方法有效
申请号: | 200880015374.3 | 申请日: | 2008-04-22 |
公开(公告)号: | CN101681092A | 公开(公告)日: | 2010-03-24 |
发明(设计)人: | 阿边哲也;新田祐平;木村幸泰 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14;H01L21/027 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李今子 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明是厚度实质上均一的光罩用基板,其具备由连续曲面构成的、待形成光罩图案的第1面、及第2面。第1面呈由相对向的第1组的边、及相对向的第2组的边构成的四边形,沿着第1组的各边的端部具有支持部。以第1面实质上呈铅直状态的方式保持光罩用基板时,将与第1面中心点处的第1面的切平面平行的参照平面,定义在对光罩用基板而言比第2面接近第1面的一侧。此时,第1面的中心点与参照平面之间的沿着厚度方向的第1距离,短于第2组的各边的中点与参照平面之间的沿着厚度方向的第2距离。 | ||
搜索关键词: | 光罩用基板 成形 构件 制造 方法 使用 曝光 | ||
【主权项】:
1.一种光罩用基板,是由厚度实质上均一的板状构件构成的光罩用基板,其特征在于:具备由连续曲面构成的、待形成光罩图案的第1面、及与上述第1面相对向的第2面;上述第1面呈由相对向的一对第1组的边、及以连结该第1组的边的方式延伸的相对向的一对第2组的边构成的四边形,沿着上述第1组的各边的端部具有用以支持上述光罩用基板的支持部;以上述第1面实质上呈铅直状态的方式保持上述光罩用基板时,以通过上述光罩用基板的重心且延伸于上述光罩用基板的厚度方向的轴线与上述第1面相交的交点作为上述第1面的中心点;将与上述中心点处的上述第1面的切平面平行的参照平面,定义在对上述光罩用基板而言比上述第2面接近上述第1面的一侧时,上述第1面的中心点与上述参照平面之间的沿着上述厚度方向的第1距离,短于上述第2组的各边的中点与上述参照平面之间的沿着上述厚度方向的第2距离。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康,未经株式会社尼康许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200880015374.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:管件叠层模具
- 下一篇:整竹筒去内节去黄组合刀具
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备