[发明专利]具有醚键且含有烯属不饱和基的异氰酸酯化合物的制造方法无效
| 申请号： | 200880015630.9 | 申请日： | 2008-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN101679221A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | 野泽金男;大野胜俊;服部阳太郎 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | C07C263/10 | 分类号： | C07C263/10;C07C265/04 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 段承恩;田 欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供在醚键不易断裂、且能够抑制不饱和基聚合的条件下，制造具有醚键且含有烯属不饱和基的异氰酸酯化合物的方法。本发明的具有醚键且含有烯属不饱和双键的异氰酸酯化合物的制造方法，是由具有醚键的氨基醇制造具有醚键且含有烯属不饱和双键的异氰酸酯化合物的方法，其特征在于，使用25℃下的氯化氢溶解度为0.1摩尔％以下的反应溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 含有 不饱和 氰酸 酯化 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种具有醚键且含有烯属不饱和基的异氰酸酯化合物的制造方法，是由具有醚键的氨基醇制造具有醚键且含有烯属不饱和基的异氰酸酯化合物的方法，其特征在于，使用25℃下的氯化氢溶解度为0.1摩尔％以下的反应溶剂。
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