[发明专利]用于紫外线曝光装置的真空吸附器有效

专利信息
申请号: 200880016270.4 申请日: 2008-05-15
公开(公告)号: CN101730865B 公开(公告)日: 2013-11-06
发明(设计)人: 李秉锡;姜相年;金炳燮 申请(专利权)人: KSE株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 陈英俊
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及一种用于紫外线曝光装置的真空吸附器。更具体地说,涉及一种提高用于在印刷电路板上形成电路图形的曝光装置的曝光速度、并且减少曝光不良的用于上述曝光装置的真空吸附器。本发明涉及的用于紫外线曝光装置的真空吸附器包括聚酯薄膜层、丙烯酰胺树脂板和固定框架。上述聚酯薄膜层固定在上述固定框架的一侧面,上述丙烯酰胺树脂板固定在上述聚酯薄膜层的上面。另外,上述真空吸附器的上述固定框架将上述丙烯酰胺树脂板隔着一定间距固定在上述聚酯薄膜层的上面。本发明在曝光过程中,不需要使用板条平刮聚酯薄膜的人工作业,从而可提高工作效率,同时防止因作业熟练度的不同而产生不合格产品的情况。
搜索关键词: 用于 紫外线 曝光 装置 真空 吸附
【主权项】:
一种用于紫外线曝光装置的真空吸附器,包括:聚酯薄膜层;丙烯酰胺树脂板;固定框架,具有在一侧面固定聚酯薄膜层的聚酯薄膜载置部,和为了在上述聚酯薄膜载置部的另一侧面固定上述丙烯酰胺树脂板从而能够在真空状态用上述丙烯酰胺树脂板按压上述聚酯薄膜层的丙烯酰胺树脂板固定部,在真空状态,上述丙烯酰胺树脂板按压上述聚酯薄膜层,从而将上述聚酯薄膜层紧贴在位于印刷电路板的上表面的掩膜。
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