[发明专利]图案数据的处理方法以及电子器件的制造方法有效
| 申请号： | 200880022043.2 | 申请日： | 2008-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN101689028A | 公开（公告）日： | 2010-03-31 |
| 发明（设计）人： | 白石直正 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱 胜;杨红梅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种用于掩膜图案的数据处理方法。所述方法包括分析掩膜图案的数据(SF)，并且根据掩膜图案指定具有预定形状和预定尺寸的图案区域(BD)。所述图案区域(BD)用作对准标记。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 数据 处理 方法 以及 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理掩膜图案的设计数据的图案数据处理方法，所述方法包括：基于所述设计数据指定预定区域作为图案区域，其中所述预定区域在第一方向上的尺寸大于或者等于第一参考值且在与所述第一方向交叉的方向上的尺寸大于或者等于第二参考值。
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