[发明专利]亲水性多孔基底有效
| 申请号： | 200880111256.2 | 申请日： | 2008-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN101821325A | 公开（公告）日： | 2010-09-01 |
| 发明（设计）人： | 小克林顿·P·沃勒;道格拉斯·E·韦斯 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/18 | 分类号： | C08J7/18 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 张爽;樊卫民 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了亲水性多孔基底、由疏水性聚合物制造亲水性多孔基底的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 亲水性 多孔 基底 | ||
【主权项】：
一种制造功能化基底的方法，所述方法包括以下步骤：1)提供多孔基体基底，该多孔基体基底具有间隙的和外部的表面；2)用第一溶液浸透所述多孔基体基底以形成吸液的多孔基体基底，所述第一溶液包括：(a)具有丙烯酸酯基团以及光引发剂基团的至少一种接枝单体以及(b)具有至少一个丙烯酸酯基团以及至少一个另外的烯键式不饱和的自由基聚合型基团的一种或多种单体；以及任选的(c)具有至少一个烯键式不饱和的自由基聚合型基团以及亲水基团的一种或多种另外的单体；其中(b)或(c)单体中的至少一者是亲水性的，3)将所述吸液的多孔基体基底暴露于受控量的电子束辐射中，以便形成第一功能化基底，所述第一功能化基底包括连接在所述多孔基体基底的表面上的接枝的光引发剂基团，以及4)将包括接枝的光引发剂基团的多孔基体基底暴露于受控量的UV辐射中，以交联剩余的烯键式不饱和的自由基聚合型基团。
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