[发明专利]超纯水制造方法和装置以及电子部件构件类的清洗方法和装置无效
| 申请号： | 200880114797.0 | 申请日： | 2008-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN101939262A | 公开（公告）日： | 2011-01-05 |
| 发明（设计）人： | 福井长雄;森部隆行;堀田等;森田博志 | 申请（专利权）人： | 栗田工业株式会社 |
| 主分类号： | C02F1/42 | 分类号： | C02F1/42;B01J47/00;B01J47/04;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 庞立志;高旭轶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供能稳定地制造硼浓度为1ng/L以下或金属浓度为0.1ng/L以下的超纯水制造装置、使用该超纯水制造装置的超纯水制造方法、电子部件构件类的清洗方法和清洗装置。超纯水制造装置，其中设置有具备阴离子交换树脂和阳离子交换树脂的混床式脱离装置16作为最后段的脱离子装置，作为该阴离子交换树脂，使用确认硼含量为50μg/L-阴离子交换树脂(湿润状态)以下的阴离子交换树脂或者阳离子洗脱量为100μg/L-阴离子交换树脂(湿润状态)的阴离子交换树脂。 | ||
| 搜索关键词： | 超纯水 制造 方法 装置 以及 电子 部件 构件 清洗 | ||
【主权项】：
超纯水制造装置，其是配备具有阴离子交换树脂的脱离子装置的超纯水制造装置，其特征在于，作为该阴离子交换树脂，使用预先对硼含量或阳离子洗脱量进行分析评价、且经确认为规定值以下的阴离子交换树脂。
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